ACHTERGROND OVER HALFGELEIDERTECHNOLOGIE
+ + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + +
Hoe ASML wil blijven verkleinen ASML onthulde onlangs hoe het met het ecosysteem rond de Veldhovense euv-scanners van plan is om het komende decennium steeds kleinere chipdetails te kunnen blijven afdrukken. Paul van Gerven
M
et de transitie van de i-line-lampen in het midden van de jaren tachtig naar de euv-lichtbronnen van tegenwoordig is de resolutie waarmee ’s werelds meest geavanceerde chips worden afgebeeld met twee ordegroottes naar beneden gegaan. Al enige tijd zegt ASML dat het deze trend nog minstens een decennium kan blijven volhouden. Maar behalve dat het high-na euv-lithografie op de roadmap heeft gezet, is de Veldhovense machinebouwer nog niet in details getreden over hoe het bedrijf dat wil verwezenlijken. Tijdens een presentatie op de online conferentie SPIE Advanced Lithography lichtte Jos Benschop, senior
vicepresident technologie, een tipje van de sluier op. Het onderwerp waar het publiek waarschijnlijk reikhalzend naar uitkeek, was stochastics. Benschop zelf noemde het ‘de olifant in de kamer’. Stochastische fouten zijn random variaties in het patroon en zijn al vanaf het begin een uitdaging voor euv-lithografie. Het is dus al jaren een veelbesproken onderwerp, vooral op specialistenbijeenkomsten zoals de SPIE AL-conferentie. En dat is het nog steeds. Hoewel stochastics duidelijk geen struikelblok is gebleken voor de commerciële implementatie – de euv-teller stond eind vorig jaar op 26 miljoen belichte wafers – wordt het pro-
bleem almaar nijpender met de verdergaande miniaturisering van chipstructuren. High-na euv-lithografie is een deel van de oplossing, maar daarmee is het probleem nog zeker niet verdwenen.
Krachtigere bron
Stochastische fouten manifesteren zich als random, onregelmatige en op zichzelf staande gebreken in het geprinte patroon. Het resultaat kan onder meer zijn dat lijnen lokaal onderbroken zijn, contacten missen of elkaar onbedoeld raken, of dat er kleine bruggetjes ontstaan tussen structuren die helemaal niet verbonden horen te zijn. Elk van die fouten op zich is al genoeg om de
Foto: ASML
36
M+M_03_2021_Achtergrond_ASML shrinking.indd 36 Mechatronica_03_1-48.indd 36
MECHATRONICA+MACHINEBOUW 3
11/04/2021 09:20 17:14 12/04/2021
M+M_0
