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by Paola Giraldo
MEGASONIC CLEANING IN THE MICROSYSTEMS TECHNOLOGY Il lavaggio Megasonico nella tecnologia dei microsistemi
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ue to the increasing integration of ever smaller structures for causa della crescente integrazione di strutture sempre più piccole per i electronic components and microsystems grow the demands componenti elettrici e i microsistemi, crescono le esigenze di lavaggio. on their cleaning. Smallest particles down to the nano range must Dalle superfici sensibili devono essere rimosse le più piccole particelle, fino be removed from sensitive surfaces. To meet these requirements an all’ordine dei nanometri. Un sistema a ultrasuoni con una frequenza operaultrasound system with a working frequency of 1 megahertz (MHz), also tiva di 1 megahertz (1 MHz), chiamato anche sistema megasonico, permetcalled Megasonic system, offers a significant benefit in comparison with te di raggiungere questi obiettivi offrendo un vantaggio significativo rispetto the conventional low-frequency ultrasound, for example with 40 kilohertz agli ultrasuoni convenzionali a bassa frequenza, per esempio a 40 kilohertz (kHz). Due to the significantly lower cavitation, (kHz). Grazie a una cavitazione significativamente più bassa, le microstrutmicrostructures are not destroyed and the ture non vengono distrutte e il processo di lavaggio è ottimizcleaning process is optimized. The particle size zato. Le dimensioni delle particelle contaminanti e la sensibiliand the sensitivity of the substrate surface are tà del substrato sono i criteri per la selezione the criteria for the selection of the appropriate della frequenza ultrasonica appropriata. ultrasonic frequency. SONOSYS® provides SONOSYS® offre soluzioni con sistemi customer-oriented and future-proof Ultrasonic-/ a ultrasuoni e megasuoni orientate al Megasonic-System solutions in the frequency cliente e all’avanguardia, in una gamma range from 400 kHz to 4 MHz. Our 15 years of da 400 kHz a 4 MHz. 15 anni di esperienza experience in development and production, as nello sviluppo, nella produzione e nella collaborawell as collaboration with world renowned research zzione con i più rinomati istituti di ricerca nel mondo, rendono institutes, make us your competence partner l’azienda un partner competente per il lavaggio di preci1 for precision cleaning. Megasonic systems are sione. I sistemi a megasuoni sono particolarmente usati Megasonic-Generator with Single-Nozzle. particularly used in wet processes, for the production Source: Sonosys Ultraschallsysteme GmbH. nei processi a umido, nella produzione di componenti of electronic components, substrates, optical glasses Generatore Megasonico a ugello singolo elettronici, substrati, vetri ottici e microsistemi. and microsystems. Fonte: Sonosys Ultraschallsysteme GmbH. Come novità di prodotto, SONOSYS®presenta un ugello As a product novelty Sonosys megasonico con frequenza di 600 m presents a Megasonic Nozzle kkHz (fig. 1). Il trasduttore nell’ugelwith the frequency of 600 kHz llo megasonico genera un’onda (Fig. 1). The transducer in the megasonica che viene trasmessa, m Megasonic Nozzle generates aattraverso un liquido in movimena Megasonic wave, which is tto (per esempio, acqua demineratransmitted through a flowing llizzata), alla superficie dell’oggetto liquid (e.g.: DI-water) to the da pulire. Il sistema a ugello ultrad surface of the object to be ssonico privo di vasca offre processi 2 3 cleaned. This tankless Ultrasonic avanzati di lavaggio senza contatto. Cleaning example of optical Nozzle system provides advanced Cleaning example of optical Con la nuova frequenza di ugelli components after the cleaning with non contact cleaning processes. components before the cleaning. megasonici dell’azienda da 1 MHz the nozzle at the frequency of 600 kHz. Un componente ottico prima del With the recent frequency of our a 4 MHz, è possibile eseguire un lavaggio. Un componente ottico dopo il lavaggio Megasonic Nozzles with 1 MHz lavaggio efficiente di particolato ficon l’ugello alla frequenza di 600 kHz. to 4 MHz, the efficient cleaning no a 34 nm da wafer semicondutof particles down to 34 nm from semiconductor wafers and masks is tori a maschere. Con la nuova freapproved. With the new frequency of 600 kHz, a much stronger cavitation quenza di 600 kHz, una cavitazione più forte nel getto liquido permette il in the liquid jet allows the cleaning of larger particles and stubborn dirt. lavaggio di particolato più grande e sporco più ostinato. Sono possibili una A variety of new applications outside the semiconductor industry thereby varietà di nuove applicazioni al di fuori dell’industria dei semiconduttori, is opened up such as in optics (Figs. 2 and 3), medical devices and sensors. come nel settore ottico (figg. 2 e 3), dei dispositivi medicali e dei sensori. For further information: www.sonosys.de Per maggiori informazioni: www.sonosys.de
8 OCTOBER 2012