ICT - Industrial Cleaning Technologies n. 21 | April 2022

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DORIS SCHULZ

ICT | TECHNOLOGY OVERVIEW

SCHULZ. PRESSE. TEXT., Korntal – Germany ds@pressetextschulz.de

Cleanliness in submicrometer and atomic percent range

Livello di pulizia nella gamma submicrometrica e atomica

In many industry areas new and enhanced products lead

In molti settori industriali prodotti nuovi e migliorati portano

to very high cleanliness specifications. Due to changed

con sé specifiche di pulizia molto elevate. A causa delle mutate

manufacturing, joining and coating technologies and

tecnologie di produzione, di saldatura e di rivestimento e

more stringent regulatory specifications, there are stricter

di normative più stringenti, vi sono requisiti più severi in

requirements for particulate and film-type part cleanliness.

termini di pulizia dai contaminanti particellari e pellicolari.

To reach these values in series production in a process-

Per soddisfare questi requisiti nella produzione in serie in

reliable and efficient way, not only cleaning and drying

modo affidabile ed efficiente, non solo i processi di lavaggio e

processes meeting demands and suited system technology,

asciugatura con una tecnologia di sistema adatta, ma anche

also software implementation and cleaning environment

l’implementazione di software e l’ambiente di lavaggio devono

must be adapted accordingly.

essere adattati di conseguenza.

W

C

cells, optical systems or metal cutting tools, the requirements for

accumulatori e celle a combustibile, sistemi ottici o utensili per il taglio

performance and reliability are extremely high.

del metallo, i requisiti prestazionali e di affidabilità sono elevatissimi.

hether production equipment for the semi-inductor industry, biotechnology, laser and sensor technology, devices for measuring

and analysis technology, components for accumulators and fuel

he si tratti di apparecchiature di produzione per l’industria dei semiconduttori, biotecnologie, tecnologia laser e dei sensori,

dispositivi di misurazione e tecnologie di analisi, componenti per

© Ecoclean

By combining wet chemical and low-pressure plasma cleaning methods for ultrafine degreasing in a single machine, the surface characteristics required for downstream coating or bonding are efficiently achieved. Combinando il lavaggio chimico e con plasma a bassa pressione per lo sgrassaggio ultrafine in una singola macchina, le caratteristiche superficiali richieste per il successivo rivestimento o incollaggio si ottengono in modo efficiente.

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