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Fase quirúrgica en los 3 casos clínicos

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Realizamos una incisión crestal y exposición ósea mediante la elevación de un colgajo mucoperióstico. Tras la eliminación del tejido cicatrizal, se marca el punto de fresado con la fresa de lanza y se utiliza la secuencia de fresado habitual a baja velocidad (50-75 rpm) con una longitud de trabajo 1 mm inferior a la altura crestal medida radiográficamente.

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Continuamos la secuencia de fresado hasta 4 mm de diámetro.

Cambiamos a la fresa de corte frontal de 4 mm de diámetro (fresas de corte frontal BTI®) y trabajamos la cortical del suelo sinusal a baja velocidad hasta traspasar la cortical (fig. 10).

Utilizamos el piezoeléctrico con el inserto de separación/elevación de membrana sinusal (Inserto SG-11, NSK®) para repasar los bordes apicales de la preparación y separar la membrana de Schneider (fig. 11).

A continuación, insertamos en la preparación membranas de fibrina (Fracción 1 de PRGF Endoret®) que compactamos con la ayuda de un atacador óseo romo (PLG1SIM Bone plugger, Hufriedy®) para empujar la membrana sinusal y crear espacio para el xenoinjerto (fig. 12).

Rellenamos la preparación con un xenoinjerto particulado (Bio-Oss®, Geistlich Pharma AG) vehiculizado en plasma (Fracción 2 de PRGF Endoret®) compactando suavemente con el atacador óseo cada vez que introducimos material de relleno (fig.13).

Por último, se inserta el implante dental y el pilar transepitelial con su tapa de cicatrización (figs. 14).

Fase Restauradora-prostodóntica

Tras 4 meses de cicatrización en los 3 casos presentados, se realizan radiografías periapicales de control de los implantes, donde observamos mantenimiento del relleno óseo radiográfico en el periápice del implante y se procede a colocación de la prótesis definitiva (fig.15). En el caso clínico 1, durante la fase de integración del implante 26 el paciente fracturó el molar 27 y hubo que extraerlo. Se colocó una corona provisional en el 26 y se esperó a la integración del implante colocado en posición 27 para realizar la prótesis definitiva sobre los implantes 26-27. Dos años después de la carga de los implantes 26-27, se realiza una radiografía panorámica de control tras la colocación de implantes en el 3er cuadrante.

Discusión

Disponemos hoy en día de numerosos sistemas y distintos protocolos para la realización de la elevación de seno por vía transcrestal, además del abordaje clásico con osteotomos. Las revisiones sistemáticas que se han realizado al respecto reflejan una alta eficacia y baja prevalencia de complicaciones con la mayoría de ellas12,13, pero faltan ensayos clínicos aleatorizados que demuestren superioridad de alguna de las nuevas técnicas descritas sobre el resto y establezcan cuáles son los nuevos límites para plantear una elevación de seno transcrestal y cuánto cabe esperar aumentar con cada técnica descrita, teniendo en cuenta la gran heterogeneidad en los resultados en cuanto a medias de aumento óseo transcrestal.

Los pacientes demuestran una mejor aceptación de los instrumentos rotatorios o piezoeléctricos comparado con la utilización de martillo y ostetomos para romper el suelo sinusal14. Las fresas de corte frontal han demostrado seguridad en la osteotomía de la cortical sinusal en el abordaje transcrestal con una baja prevalencia de perforaciones de la membrana sinusal15. A su vez, el uso de insertos piezoeléctricos para el despegamiento de la membrana de Schneider ha sido ampliamente documentado, obteniendo buenos resultados clínicos tanto en el abordaje lateral como en el transcrestal, y con una mejor aceptación de la técnica por parte de los pacientes16-18. La combinación de ambas técnicas puede ser una opción terapéutica favorable para el manejo de este tipo de casos clínicos.

El relleno óseo en las técnicas de elevación transcrestal ha sido ampliamente discutido en la literatura científica y el hecho de rellenar la cavidad antral creada no parece afectar a la supervivencia de los implantes según algunas revisiones sistemáticas19,20, aunque sí afecta a la ganancia en altura ósea, que es mayor cuando se realiza injerto óseo21

Respecto al protocolo descrito, una de las limitaciones que podemos encontrarnos es el tamaño de la preparación para el abordaje transcrestal. Debido a que la parte activa del inserto piezoeléctrico para elevación de membrana sinusal tiene un diámetro de 4 mm, los implantes colocados deben ser anchos, de un diámetro de al menos 4,5 o 5 mm para conseguir estabilidad. En los rebordes crestales planos esto no debería ser un problema, pero puede serlo en los casos de crestas más estrechas con un defecto horizontal asociado.

Conclusión

Pese a la gran variedad de técnicas y sistemas descritos para la elevación transcrestal del suelo sinusal, todas ellas tienen por objetivo minimizar la morbilidad del paciente, limitar la prevalencia de perforaciones de la membrana sinusal y reducir las

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