Focused Ion Beam System FIB • FB2200
Rápida y precisa preparación de muestras para tanto TEM como SEM en semiconductores y otros materiales avanzados.SE señal de control de la EEB por Super ExB Permite que un haz de corriente máxima de 60 nA a un voltaje de aceleración de 40 Bajas energías de haz de 2 kV y 5 kV del espécimen están disponibles como opción.
• DuraVision
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Integra una Columna de iones FIB superior 40 Kv Ga con una ultra alta resolución FESEM Excepcional estabilidad, el rendimiento y la resolución, por ejemplo reconstrucciones automáticas en 3D. NB5000 incorpora dos etapas de muestras, una etapa eucéntrica convencional y una etapa opcional TEM hiper para máxima estabilidad y compatibilidad con los sistemas de soporte de la muestra STEM / TEM.